半導体プロセス設備

クリーンルーム (中央製作所) クラス10000（空気中に比べて塵の数が1/100）の簡易なクリーンルーム．重要なプロセスはほとんどここで行う．	電子ビーム描画装置 (エリオニクスELS7500EX) 加速電圧50kVの電界放射型電子銃とレーザ測長計を備え，5nm以下の細線や大面積パターンを描画可能．大規模光集積回路パターンを描く本研究室の主力装置．	電子ビーム描画装置 (エリオニクスELS7500) 左記のELS7500EXとほぼ同性能で，大面積描画機能を削除した廉価版．両者の使い分けでスループットの向上を目指す．	電子ビーム照射装置 (エリオニクス ELS3300EX) LaB6電子銃を備え，大電流の電子ビームを照射できる．各種デバイス製作プロセスに用いる．
誘導結合プラズマエッチング装置 (サムコ RIE-200ip) 化合物半導体を寸法100nm，精度1nmで精密加工するための装置．レーザなどのアクティブデバイスの製作に用いる．	誘導結合プラズマエッチング装置 (サムコRIE-10ip) ガラスや誘電体を100nm，精度1nmで精密加工するための装置．光導波路などのパッシブデバイスの製作に用いる．	電子サイクロトン共鳴プラズマ エッチング装置 (エリオニクス EIS-200ER) 金属膜を加工するために用いるエッチング装置．	原子層堆積装置 (ハイテクシステムズSavanna-h) 原子層の精度で誘電体薄膜を任意形状の基板に堆積できる．ナノレーザセンサーの保護膜形成に使う．
マグネトロンスパッタ装置 (アルバックRFS200) 酸化膜クラッドを形成する簡単な高周波スパッタ装置．	真空蒸着装置 (アルバックVPC-410S) 自公転基板ステージを備えた抵抗加熱蒸着装置．金属蒸着に用いる	真空蒸着装置 (アルバックVPC-410) 汎用の抵抗加熱蒸着装置．金属蒸着に用いる．	赤外ランプアニール装置 (サーモ理工VF-220) 電極の加熱処理のために用いる高速アニール装置
抵抗加熱炉 (光陽リンドバーグなど) 各種熱処理に用いる加熱装置	金属コーター (エリオニクスSC-701) スパッタによって簡易に金属被膜を付着させるコーター	クリーンドラフトちゃんバー (イトーキ，ヤマト科学など) 様々な化学処理を行うクリーン排気装置	超純水装置 (ミリポアMilli-RX/QSP, など) 半導体各種プロセスに必要なイオンを除去した高抵抗の水を生成する装置
研磨用設備 (フルウチ化学など) ウエハを劈開しやすくするための薄膜化用各種用具	ウエハスクライバー (オプトシステムOSM-80TP) TVカメラを見ながらウエハに劈開用の傷を正確に形成する装置